會展知識產權三大類別
發(fā)布日期: 2014-03-13 來源:中國展會網(wǎng)
(一)展品設計:專利、商標、著作權、其他知識產權、未申請專利的新產品。(二)展臺設計:對展臺設計侵權行為有兩種情況,第一種是參展商拷貝其他參展商的展臺設計,略加修改成為自己的展臺;第二種情況較為復雜,涉及了又一利益主體―展臺設計搭建商,參展商以種種借口不讓他們的方案中標,然后轉手將扣留下來的設計圖紙或方案提交給第三方抄襲使用,或略有改動使用。(三)展具設計:展具設計所涉及的知識產權主要是專利、商標,其中又以專利居多。隨著展具設計專利申請的增加,展會中的展具設計知識產權侵權也隨之增加。
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